O FIRMIE LABORATORIA APLIKACYJNE INSTALACJA BIURO SERWISOWE KONTAKT SŁOWNIK WYDARZENIA SYMPOZJA Zakopane 2017 Wyprzedaż

    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

KONTAKT

Adres do korespondencji:

 

MS SPEKTRUM

04-002 Warszawa

ul. Lubomira 4

 

Telefon: (+48) 22 810 01 28

Faks: (+48) 22 810 01 28

E-mail: biuro@msspektrum.pl

 

 

 

 

APLIKACJE - metodyki oznaczeń na przyrządach AAS / ICP / MP

poprzednia wersja: aplikacje

aby uzyskać szczegółowe informacje kliknij na symbol wybranego pierwiastka

  

  wybrano:
Te - Tellur

Roztwory
wzorcowe
AAS
lampy HCL
AAS
płomień
AAS
kuweta grafit.
ICP-OES

Klikając w kwadracikach zaznacz interesujące Cię parametry pierwiastków i naciśnij OK

     

Liczba Atomowa

AAS linia 1 [nm]

     

Nazwa

AAS linia 2 [nm]

     

Masa Atomowa

AAS oznaczanie 

 = C2H2-powietrze     

 = C2H2-N2O     

 = wodorki     

ICP linia [nm]

AAS płomień zakr. roboczy [ppm] (linia 1)

     

ICP gr. wyk. [ppb]

     
         

Oznaczanie telluru - Te

Liczba atomowa: 52
Masa atomowa: 127.6
Temperatura topnienia: 450 °C
Temperatura wrzenia: 988 °C  

Wzorce, odczynniki, roztwory pomocnicze do oznaczania telluru - Te

Roztwory wzorcowe do spektrometrów AAS/ASA i MP Agilent

Wzorzec
telluru (Te)
do technik

Stężenie
ppm

Objętość
ml

Matryca
ml

nr katalogowy
Agilent

AAS MP

1000

100

5% HNO3    

5190-8315

AAS MP

1000

500

5% HNO3    

MP ICP

1000

100

30% HCl    

5190-8533

MP ICP

1000

500

30% HCl    

5190-8534

MP ICP

10000

100

30% HCl    

5190-8213

MP ICP

10000

500

30% HCl    

5190-8214

    wzorce do technik AAS i MP zestawienie wzorców do technik AAS i MP firmy Agilent

Odczynniki do techniki generacji wodorków/zimnych par

Borowododorek sodowy NaBH4 / Sodium tetrahydridoborate(NaBH4), 500 g, nr katalogowy Agilent 8210029100 MSDS

    wzorce Te do techniki AAS wzorce Te do techniki AAS firmy SPEX  

AAS/ASA - Lampy z katodą wnękową HCL - tellur

Lampy katodowe HCL do spektrometrów AAS/ASA Agilent

LAMPY STANDARDOWE

   

   Lampa: Agilent Te

   

     nr katalogowy lampy kodowanej Te:

  Agilent 5610105600

   

     nr katalogowy lampy niekodowanej Te:

  Agilent 5610127600

   

     materiał okna lampy / gaz wypełniający:

  kwarc / Ne 

     prąd lampy nominalny / maksymalny

  10 / 12 mA  

   

   

LAMPY UltrAA

   

   Lampa: Agilent Te

   

     nr katalogowy lampy kodowanej Te:

  Agilent 5610134000

   

     materiał okna lampy / gaz wypełniający:

  kwarc / Ne 

     prąd lampy nominalny / maksymalny

  10 / 15 mA  

   

   

Te - lampy katodowe firmy PHOTRON  Te - lampy katodowe HCL PHOTRON

Linie widmowe lamp katodowych Te
Linie widmowe Te

Intensywności względne wybranych linii lampy HCL (100 odpowiada linii o największej intensywności)
Czułości względne wybranych linii (100 odpowiada linii o największej/najlepszej czułości = najmniejsze stęż. charakter.)

Linia Te

  Intensywność linii:

  10(10) 

214,3 nm

  Czułość linii:

  100(100) 


Linia Te

  Intensywność linii:

  100(100) 

225,9 nm

  Czułość linii:

  6(6) 


Linia Te

  Intensywność linii:

  60(60) 

238,6 nm

  Czułość linii:

  0(0) 



 

AAS/ASA - Technika płomieniowa - oznaczanie telluru

AAS/ASA - technika płomieniowa

 Prąd lampy: 

    10 mA

 Prąd lampy UltrAA: 

    10 mA

 Rodzaj płomienia: 

    acetylen-powietrze - utleniający

 Tellur można oznaczać techniką generacji wodorków

 

 

    

Linia
analityczna
[nm]

    

    

Szczelina
spektralna
[nm]

    

    

Zakres
roboczy
[ppm]

    

    

Stężenie
charakterystyczne
[ppm]

    

    

Granica
wykrywalności
[ppm]

    

214.3

0.2

0.3-60

0.15

0.04

225.9

0.5

10-800

2.3

238.6

0.2

100-8000

225

AAS / ASA - krzywa kalibracyjna dla telluru / płomień

 Stężenie wzorca:  ppm (µg/ml)        Linia:   nm   

UWAGI:

Bardzo duże stężenia Ca, Cu, Si, Na, Zn i Zr wpływają na sygnał Te.
Rozpuszczony w roztworach CO2 może absorbować znaczną ilość promieniowania lampy. Ma to szczególne znaczenie przy niskich stężeniach telluru. Stosowanie korekcji tła jest wówczas konieczne.
Oznaczenia w płomieniu acetylen-podtlenek azotu dają ok. 3x gorszą czułość.
Dostępna jest lampa typu UltrAA. Lampy wielopierwiastkowe nie są produkowane.
Oznaczanie telluru w trybie emisji nie jest zalecane.

 

AAS/ASA - Technika płomieniowa / emisja - oznaczanie telluru

 

    

 Linia emisyjna:

    214.3 nm

 Szczelina:

    0.2 nm

 Rodzaj płomienia:

    acetylen-podtlenek azotu

 

    

 

AAS/ASA - Generacja wodorków / zimne pary - oznaczanie telluru


 Generator wodorków/zimnych par VGA77
 

Linie: 214.3 nm lub 225.9 nm

Skład reduktora: NaBH4 0.6% w/v + NaOH 0.5% w/v (2.5 g NaOH + 3 g NaBH4 rozpuścić na zimno w 500 ml dejonizowanej wody, w podanej kolejności - [1] NaOH; [2] NaBH4)

Skład kwasu: 5 M HCl (do 260 ml dejonizowanej wody dodać 240 ml stężonego kwasu)

Skład próbki (i wzorców): próbka powinna zawierać kwas solny (HCl) o stężeniu 6-7 M

Stopień utlenienia dla próbki (i wzorców): w próbce i wzorcach powinien być obecny Te wyłącznie na 4+ stopniu utlenienia

Reduktor/dodatki do prób: przy stężeniu HCl na poziomie 6-7 M, po ogrzaniu prób do 70-90 °C przez minimum 10 minut przebiega redukcja Te (6+) do Te (4+)

Zalecana temperatura dla ogrzewacza ETC60: 850 °C

Stężenie charakterystyczne dla lampy HCL:    0.15 ppb

Granica wykrywalności dla lampy HCL:    0.15 ppb

 Stężenie wzorca:  ppb (ng/ml)  214.3nm   

Opis:

 

AAS/ASA - Technika bezpłomieniowa (kuweta grafitowa) - oznaczanie telluru

technika bezpłomieniowa - kuweta grafitowa
 

 Linia analityczna / szczelina: 

    214.3 / 0.2 nm

 Temperatura rozkładu termicznego: 

    1200 °C

 Temperatura atomizacji: 

    2600 °C

 Masa charakterystyczna: 

    9 pg

 Stężenie charakterystyczne (20µl): 

    0.45 ppb

 Absorbancja maksymalna: 

    1.1 (ok. 112.5 ppb)

 

 

 Linie alternatywne: 

    225.9 / 0.5 nm

 

    238.6 / 0.2 nm

 

 

 UWAGI:

Zalecane jest stosowanie lampy typu UltrAA (wyższa czułość, lepsza granica wykrywalności).
Podana czułość i temperatura rozkładu termicznego dotyczą pomiarów z modyfikatorem Pd.

 

 Stężenie wzorca:  ppb (ng/ml)        Objętość:   µl   


Zeeman

 Linia analityczna / szczelina: 

    214.3 / 0.2 nm

 Temperatura rozkładu termicznego: 

    1200 °C 

 Temperatura atomizacji: 

    2600 °C

 Natężenie pola: 

    0.8 T

 Masa charakterystyczna: 

    9 pg

 MSR: 

    93 %

 

    


 Modyfikator matrycy: Pd - 100 ppm azotan palladu, 5µl

 alternatywnie:

   Modyfikator matrycy (2): Ni(NO3)2 - azotan niklu, 10 000 ppm
 


TYPOWY PROGRAM TEMPERATUROWY DLA KUWETY GRAFITOWEJ (D2 i Zeeman)

Krok

Temp.
[°C]

Czas
[s]

Przepływ
gazu [l/min]

Odczyt

1

85

5

3

-

2

95

40

3

-

3

120

10

3

-

4

1200

5

3

-

5

1200

1

3

-

6

1200

2

0

-

7

2600

1.1

0

tak

8

2600

2

0

tak

9

2650

2

3

-


 

Noty aplikacyjne powiązane z oznaczaniem Te techniką GF AAS / Agilent

Tytuł

Pierwiastki
Składniki

Matryca

Technika
Przyrząd

link

rozmiar

Determination of Trace Metals in High-Purity Copper Using the GTA-95 Graphite Tube Atomizer

Oznaczanie metali śladowych w miedzi wysokiej czystości techniką GFAAS
(11-2010)

As, Sn, Pb, Sb, Bi, Se, Te 

Cu

AAS
kuweta


79 k

 

ICP-OES - oznaczanie telluru

Linie ICP dla telluru (poszczególne linie linkują do wykresów linii sąsiadujących).

λ 214.281

nm

SBR:

1

λ 238.326

nm

SBR:

0.25

λ 170

nm

SBR:

0.065

λ 175.1

nm

SBR:

0.025

λ 238.578

nm

SBR:

0.4

λ 208.116

nm

SBR:

0.18

λ 199.418

nm

SBR:

0.06

λ 220.883

nm

SBR:

0.025

λ 225.902

nm

SBR:

0.35

λ 214.725

nm

SBR:

0.15

λ 225.548

nm

SBR:

0.03

λ 175.939

nm

SBR:

0.024

λ 200.202

nm

SBR:

0.25

λ 182.24

nm

SBR:

0.11

λ 226.555

nm

SBR:

0.03

Wykres dla linii ICP znajdujących się w pobliżu linii telluru 208.116 nm (okno = ± 0.54 nm).
okno: ± 0,2    0,54   2    nm


Granica wykrywalności dla linii 214.281 nm: 2.4 ppb

Noty aplikacyjne powiązane z oznaczaniem Te techniką ICP-OES / Agilent

Tytuł

Pierwiastki
Składniki

Matryca

Technika
Przyrząd

link

rozmiar

Simplify testing of elemental impurities in pharmaceuticals with Agilent’s certified reference materials kit
ICH Q3D/USP <233> Elemental Impurities Kit

Uproszczenie analiz zanieczyszczeń pierwiastkowych w farmaceutykach przy zastosowaniu zestawu certyfikowanych materiałów odniesienia
ICH Q3D/USP <233> Elemental Impurities Kit
(5-2017)

Hg, As, Cd, Pb, Ni, Ag, Se, V, Tl, Co, Au, Ir, Os, Pd, Pt, Rh, Ru, Cr, Sn, Cu, Mo, Ba, Sb, Li, Te, Sc, Ge, In, Lu, Bi 

CRM
(farmaceutyki)

ICP
5110


908 k

 
 
O firmie
Laboratoria aplikacyjne
Aplikacje
Instalacja
Biuro serwisowe
Kontakt
Słownik
Wydarzenia
Sympozja
zakopane 2017
wyprzedaż
Nota prawna
Polityka prywatności
Kontakt