O FIRMIE LABORATORIA APLIKACYJNE INSTALACJA BIURO SERWISOWE KONTAKT SŁOWNIK WYDARZENIA SYMPOZJA Zakopane 2017 Wyprzedaż

    

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

KONTAKT

Adres do korespondencji:

 

MS SPEKTRUM

04-002 Warszawa

ul. Lubomira 4

 

Telefon: (+48) 22 810 01 28

Faks: (+48) 22 810 01 28

E-mail: biuro@msspektrum.pl

 

 

 

 

APLIKACJE - metodyki oznaczeń na przyrządach AAS / ICP / MP

poprzednia wersja: aplikacje

aby uzyskać szczegółowe informacje kliknij na symbol wybranego pierwiastka

  

  wybrano:
Hf - Hafn

Roztwory
wzorcowe
AAS
lampy HCL
AAS
płomień
ICP-OES

Klikając w kwadracikach zaznacz interesujące Cię parametry pierwiastków i naciśnij OK

     

Liczba Atomowa

AAS linia 1 [nm]

     

Nazwa

AAS linia 2 [nm]

     

Masa Atomowa

AAS oznaczanie 

 = C2H2-powietrze     

 = C2H2-N2O     

 = wodorki     

ICP linia [nm]

AAS płomień zakr. roboczy [ppm] (linia 1)

     

ICP gr. wyk. [ppb]

     
         

Oznaczanie hafnu - Hf

Liczba atomowa: 72
Masa atomowa: 178.49
Temperatura topnienia: 2233 °C
Temperatura wrzenia: 4603 °C  

Wzorce, odczynniki, roztwory pomocnicze do oznaczania hafnu - Hf

Roztwory wzorcowe do spektrometrów AAS/ASA i MP Agilent

Wzorzec
hafnu (Hf)
do technik

Stężenie
ppm

Objętość
ml

Matryca
ml

nr katalogowy
Agilent

MP ICP

1000

100

5% HCl    

5190-8463

MP ICP

1000

500

5% HCl    

5190-8464

MP ICP

10000

100

5% HCl    

5190-8394

MP ICP

10000

500

5% HCl    

5190-8395

    wzorce do technik AAS i MP zestawienie wzorców do technik AAS i MP firmy Agilent

    wzorce Hf do techniki AAS wzorce Hf do techniki AAS firmy SPEX  

AAS/ASA - Lampy z katodą wnękową HCL - hafn

Lampy katodowe HCL do spektrometrów AAS/ASA Agilent

LAMPY STANDARDOWE

   

   Lampa: Agilent Hf

   

     nr katalogowy lampy kodowanej Hf:

  Agilent 5610102200

   

     nr katalogowy lampy niekodowanej Hf:

  Agilent 5610124100

   

     materiał okna lampy / gaz wypełniający:

  kwarc / Ne 

     prąd lampy nominalny / maksymalny

  10 / 15 mA  

   

   

Hf - lampy katodowe firmy PHOTRON  Hf - lampy katodowe HCL PHOTRON

Linie widmowe lamp katodowych Hf
Linie widmowe Hf

Intensywności względne wybranych linii lampy HCL (100 odpowiada linii o największej intensywności)
Czułości względne wybranych linii (100 odpowiada linii o największej/najlepszej czułości = najmniejsze stęż. charakter.)

Linia Hf

  Intensywność linii:

  15(15) 

307,3 nm

  Czułość linii:

  100(100) 


Linia Hf

  Intensywność linii:

  100(100) 

368,2 nm

  Czułość linii:

  16(16) 



 

AAS/ASA - Technika płomieniowa - oznaczanie hafnu

AAS/ASA - technika płomieniowa

 Prąd lampy: 

    10 mA

 Rodzaj płomienia: 

    acetylen-podtlenek azotu - redukujący

 

 

    

Linia
analityczna
[nm]

    

    

Szczelina
spektralna
[nm]

    

    

Zakres
roboczy
[ppm]

    

    

Stężenie
charakterystyczne
[ppm]

    

    

Granica
wykrywalności
[ppm]

    

307.3

0.2

20-3000

10

2

368.2

0.5

140-11000

377.8

0.5

250-20000

 Stężenie wzorca:  ppm (µg/ml)        Linia:   nm   

UWAGI:

Interferuje większość pierwiastków, w tym siarczany, fluorki, metale alkaliczne i metale ziem alkalicznych. Interferuje również większość metali przejściowych. W wielu przypadkach wpływ mają metale interferujące przy stężeniach nawet poniżej 50 ppm.
Niektóre interferencje zmniejszają się w płomieniu utleniającym.
Istnieje kilka metod na uniknięcie problemów z interferencjami:
1 - bardzo dokładne odwzorowanie matrycy we wzorcach
2 - stosowanie metody dodatku wzorca
3 - dodanie do wszystkich prób, wzorców i ślepych 2000 ppm Al i 1% HF (końcowe stężenia w roztworach).
W niektórych przypadkach dla dużych stężeń hafnu krzywa kalibracyjna może osiągać ujemne nachylenie (prawdopodobnie efekt powstawania tlenków w płomieniu).
Analizy hafnu w trybie emisji są rzadko praktykowane i nie są zalecane.
Większość wzorców hafnu przygotowywana jest w oparciu o HF. Równocześnie fluorki podnoszą nieco czułość dla hafnu. Należy pamiętać o przechowywaniu roztworów hafnu w naczyniach polietylenowych.
Lampa UltrAA oraz lampy wielopierwiastkowe nie są produkowane.

 

AAS/ASA - Technika płomieniowa / emisja - oznaczanie hafnu

 

    

 Linia emisyjna:

    368.2 nm

 Szczelina:

    0.2 nm

 Rodzaj płomienia:

    acetylen-podtlenek azotu

 

    

 

ICP-OES - oznaczanie hafnu

Linie ICP dla hafnu (poszczególne linie linkują do wykresów linii sąsiadujących).

λ 339.98

nm

SBR:

10

λ 277.336

nm

SBR:

5

λ 286.17

nm

SBR:

3

λ 239.383

nm

SBR:

2.5

λ 263.871

nm

SBR:

6

λ 282.022

nm

SBR:

5

λ 356.166

nm

SBR:

3

λ 232.247

nm

SBR:

5

λ 301.29

nm

SBR:

4

λ 227.716

nm

SBR:

2.5

λ 251.688

nm

SBR:

5

λ 286.101

nm

SBR:

3

λ 235.122

nm

SBR:

2.5


Granica wykrywalności dla linii 339.98 nm: 0.5 ppb

 
 
O firmie
Laboratoria aplikacyjne
Aplikacje
Instalacja
Biuro serwisowe
Kontakt
Słownik
Wydarzenia
Sympozja
zakopane 2017
wyprzedaż
Nota prawna
Polityka prywatności
Kontakt